歌尔光学在AR|VR|MR大会上发布采用表面浮雕刻蚀光栅工艺的歌尔光学光波果逆全新AR全彩光波导显示模组Star G-E1，实现了在AR光学镜片先进刻蚀工艺上的发布突破。该模组采用高折射率材料和表面浮雕刻蚀光栅工艺，全新全彩具有“高均匀性、导显高亮度、示模示效低杂光”等特性，组显即使在亮光环境下也能保持“清晰舒适的歌尔光学光波果逆显示效果”。这项工艺突破了传统纳米压印技术在高折射率材料应用上的发布瓶颈，提供了更广泛的全新全彩折射率选择，并具备更强的导显耐紫外线性能。
通过优化光栅材料和结构，示模示效Star G-E1能够实现5000尼特的组显峰值亮度。其亮度均匀性超过45%，歌尔光学光波果逆色差小于0.02，发布对比同类技术方案分别提升约50%和100%，全新全彩从而减少了图像颜色偏差并提升了色彩表现。
此外，Star G-E1采用单层光波导镜片，厚度为0.7毫米，并且使用Micro LED显示方案，使得光机体积小于0.5立方厘米。